أجريس - النظام الدولي للعلوم الزراعية والتكنولوجيا

Passivation of Aluminum Nanoparticles by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for Energetic Nanomaterials

2014

Shahravan, Anaram | Desai, Tapan | Matsoukas, Themis


المعلومات البيبليوغرافية
المجلد 6 الإصدار 10 ترقيم الصفحات 7942 - 7947 الرقم التسلسلي المعياري الدولي (ردمد) 1944-8252
الناشر
American Chemical Society
مواضيع أخرى
Aluminum nanoparticle; Nanoenergetic; Isopropyl alcohol; Pecvd; Vapors; Passivation; Argon (noble gases); Functionalization; Coatings; Plasma polymer; Thermogravimetry
اللغة
إنجليزي
النوع
Journal Article; Text

2024-02-28
MODS
مزود البيانات
تصفح الباحث العلمي من جوجل
إذا لاحظت أي معلومات غير صحيحة تتعلق بهذا السجل ، يرجى الاتصال بنا [email protected]