ФАО АГРИС — международная информационная система по сельскохозяйственным наукам и технологиям

Electron-Beam-Induced Deposition as a Technique for Analysis of Precursor Molecule Diffusion Barriers and Prefactors

2015

Cullen, Jared | Lobo, Charlene J. | Ford, Michael J. | Toth, Milos


Библиографическая информация
ACS Applied Materials & Interfaces
Том 7 Выпуск 38 Нумерация страниц 21408 - 21415 ISSN 1944-8252
Издатель
American Chemical Society
Другие темы
Adsorbate diffusion; Dissociation; Vapors; Electron-beam-induced deposition
Язык
Английский
Тип
Journal Article; Text

2024-02-27
MODS
Посмотрите в Google Scholar
If you notice any incorrect information relating to this record, please contact us at [email protected] [email protected]