ФАО АГРИС — международная информационная система по сельскохозяйственным наукам и технологиям

Molecular basis of chloroplast photorelocation movement

Kong, Sam-Geun | Wada, M. (Masamitsu)


Библиографическая информация
Том 129 Выпуск 2 Нумерация страниц 159 - 166 ISSN 0918-9440
Издатель
Springer Japan
Язык
Английский
Тип
Journal Article; Text

2024-02-28
2026-02-03
MODS
Посмотрите в Google Scholar
If you notice any incorrect information relating to this record, please contact us at [email protected] [email protected]